Équipement de pulvérisation d'atomisation ultrasonique pour le revêtement de nanofilm

Équipement de pulvérisation par atomisation ultrasonique pour le revêtement de nanofilms

 

1. Qu’est-ce que la pulvérisation de nanofilms ?

Les nanofilms sont des matériaux en couche mince-d'épaisseurs de l'ordre du nanomètre, couramment utilisés pour améliorer la conductivité, les propriétés optiques, la mouillabilité de la surface et d'autres fonctions des substrats. Les méthodes traditionnelles de préparation de films minces-incluent le revêtement par centrifugation, le revêtement par immersion, la pulvérisation cathodique et le dépôt de couche atomique. La pulvérisation par atomisation par ultrasons, via l'atomisation et le dépôt de liquides, offre une option pour la préparation de films minces à base de solution-.

2. Principe de fonctionnement de l'équipement de revêtement par pulvérisation par atomisation ultrasonique

L'équipement de revêtement par pulvérisation par atomisation ultrasonique se compose principalement d'un générateur d'ultrasons, d'une buse d'atomisation, d'un système d'alimentation en liquide, d'un système de gaz porteur et d'une plate-forme de mouvement. Son processus de travail de base est le suivant :

1. La solution de nanomatériau ou la solution de revêtement est délivrée à la buse d'atomisation ultrasonique.

2. Les vibrations ultrasoniques font que le liquide forme de fines gouttelettes.

3. Le gaz porteur transporte les gouttelettes vers la surface du substrat.

4. Les gouttelettes se propagent, sèchent ou subissent un post-traitement sur le substrat.

5. Un film mince de l'épaisseur cible est formé grâce à plusieurs pulvérisations.

 

3. Avantages de la pulvérisation par atomisation ultrasonique pour les nanofilms

Atomisation uniforme :Les buses d'atomisation à ultrasons génèrent de fines gouttelettes grâce à des vibrations à haute -fréquence, ce qui contribue à améliorer l'uniformité du dépôt du revêtement. La taille des gouttelettes, la distance de pulvérisation, la vitesse d’alimentation en liquide et l’état du substrat affectent tous la qualité du film final.

Contrôle précis de l'épaisseur du film :L'épaisseur du film peut être contrôlée avec précision en ajustant le nombre de pulvérisations, la vitesse d'alimentation en liquide, la vitesse de déplacement de la buse et la concentration de la solution.

Utilisation améliorée des matériaux :La pulvérisation par ultrasons utilise généralement une atomisation à faible vitesse-et une méthode de pulvérisation plus douce, réduisant ainsi certaines éclaboussures et pulvérisations excessives, contribuant ainsi à réduire le gaspillage de matériaux. L'utilisation réelle du matériau dépend toujours du système de pulvérisation, de la taille du substrat, des propriétés de la solution et de la méthode de récupération.

Convient à la préparation de films-sur de grandes surfaces :La pulvérisation par atomisation ultrasonique peut être combinée à des plates-formes de mouvement automatisées pour réaliser un revêtement-de grandes surfaces sur des substrats plans.

4. Applications de la pulvérisation par atomisation ultrasonique pour les nanofilms

Films conducteurs transparents :La pulvérisation ultrasonique peut être utilisée pour étudier des films polymères conducteurs tels que PEDOT:PSS, et convient au développement de couches conductrices transparentes et de matériaux électroniques organiques.

Matériaux semi-conducteurs et électroniques :Il peut être utilisé pour la recherche sur les revêtements fonctionnels sur les surfaces des plaquettes de silicium, les revêtements photorésistants et les films minces électroniques organiques.

Films fonctionnels optiques :Des matériaux tels que la nano-silice peuvent être utilisés pour préparer des films colorés structurels et d'autres revêtements optiques fonctionnels.

Revêtements hydrophiles et hydrophobes :La pulvérisation ultrasonique peut être utilisée pour préparer des films hydrophiles, hydrophobes et autres films fonctionnels de surface ; les propriétés spécifiques dépendent du matériau de revêtement et du processus de traitement de surface.

Nouveaux matériaux énergétiques :Il peut être utilisé pour la recherche et le traitement des couches fonctionnelles des -cellules solaires à couches minces et d'autres nouveaux revêtements de matériaux énergétiques.

5. RPS-Équipement de revêtement par atomisation ultrasonique SONIC

L'équipement de revêtement par atomisation ultrasonique RPS-SONIC convient aux applications telles que les revêtements de nanomatériaux, les films minces fonctionnels, les matériaux électroniques et le revêtement de surface de précision. L'équipement peut être personnalisé en fonction des caractéristiques matérielles du client, de la taille du substrat, de la zone de revêtement et des exigences de production.

Atomisation ultrasonique de haute-précision : utilise la technologie d'atomisation par ultrasons à haute-fréquence pour permettre une pulvérisation de gouttelettes stable et uniforme.

Revêtement uniforme en couche mince :Convient à la préparation uniforme de films minces grâce au contrôle des paramètres de processus tels que l'alimentation en liquide, la vitesse de pulvérisation et les temps de pulvérisation.

Solutions de revêtement personnalisées :Des solutions de revêtement par ultrasons appropriées peuvent être conçues en fonction des caractéristiques matérielles du client, de la taille du substrat, de la zone de revêtement et des exigences de production.